为什么结构复杂的陶瓷脱脂在氮气加速环境下

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Crystallization of Amorphous SiCN Ceramic Annealed in Vacuum真空气氛下非晶硅碳氮(SiCN)陶瓷的高温晶化行为
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以六甲基二硅氮烷为单一前驱体,采用电热裂解化学气相沉积技术制备了SiCN陶瓷. 借助X射线衍射仪、透射电子显微镜研究了真空环境中非晶SiCN陶瓷在℃范围内的晶化行为,并根据研究结果,运用分解-结晶机理解释了其晶化过程. 非晶SiCN陶瓷在低于1300℃开始发生分解,形成富Si-C区域,并最终发生β-SiC结晶. 其结晶度随热处理温度的升高而愈加明显.在1700℃处理时发生β-SiC→α-SiC相变. 分解形成的N-难以与Si-结合形成富Si-N区域,最终以N2形式溢出,在整个热处理温度范围没有出现氮气下热处理时存在的Si3N4结晶.
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>>>氮化硅是一种高温结构陶瓷材料,它的硬度大,熔点高,化学性质稳..
氮化硅是一种高温结构陶瓷材料,它的硬度大,熔点高,化学性质稳定,工业上曾普遍采用高纯硅与氮气在1300℃反应获得。(1)根据其性质,试推测氮化硅陶瓷的用途有下列的__________(填序号); A.制有色玻璃 &&&B.作刀具&&&C.制造陶瓷发动机(2)写出氮化硅的化学式&_______________;(3)氮化硅陶瓷抗腐蚀能力强,除氢氟酸外,它不跟其它无机酸反应。试推断该陶瓷被氢氟酸腐蚀的化学方程式&____________;& (4)用SiCl4和N2在H2气氛中加强热使其发生反应,可制取较高纯度的氮化硅,反应的化学方程式为____________。
题型:填空题难度:中档来源:期末题
(1)BC&&(2)Si3N4&(3)Si3N4&+&12HF&=&3SiF4↑+&4NH3&↑&&&或&Si3N4&+&16HF&=&3SiF4↑&+&4NH4F(4)3SiCl4+2N2+6H2&Si3N4+12HCl
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据魔方格专家权威分析,试题“氮化硅是一种高温结构陶瓷材料,它的硬度大,熔点高,化学性质稳..”主要考查你对&&新型材料(新型陶瓷、单晶硅等)&&等考点的理解。关于这些考点的“档案”如下:
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新型材料(新型陶瓷、单晶硅等)
新型无机非金属材料的特性:①能承受高温、强度高②具有光学特性③具有电学特性④具有生物功能 新型陶瓷:
①碳化硅陶瓷:将二氧化硅与碳在电炉中加热至1900℃以上可制得碳化硅:碳化硅陶瓷具有像金刚石一样的内部结构,晶体属于原子晶体。碳化硅陶瓷硬度高,可耐2000℃的高温,有较高的高温强度,化学性质稳定,耐腐蚀性强。碳化硅陶瓷可用于制造高温耐蚀部件、研磨盘、密封环、防弹板,用作研磨介质、航天器的涂层材料等。 ②氮化硅陶瓷:将高纯硅与纯氮气加热至1300℃ 可制得氮化硅:氮化硅陶瓷是一种超硬物质,本身具有润滑性,并且耐磨损:除氢氟酸外,不与其他无机酸反应,抗腐蚀能力强,高温时也能抗氧化。而且它还能抵抗冷热冲击,在空气中加热到1000℃以上,急剧冷却再急剧加热,也不会碎裂。氮化硅陶瓷可用于制造轴承、汽轮机叶片、机械密封环、永久性模具等机械构件以及发动机受热面等。 ③氧化铝陶瓷:氧化铝陶瓷(人造刚玉)是一种极有前途的高温结构材料。它的熔点很高,可用作高级耐火材料,如坩埚、高温炉管等。利用氧化铝陶瓷硬度高的优点,可以制造在实验室中使用的刚玉球磨机,用来研磨比它硬度小的材料。用高纯度的原料,使用先进工艺,还可使氧化铝陶瓷变得透明,可制作高压钠灯的灯管。 现代信息基础材料——单晶硅:
硅是目前半导体工业最重要的基础材料,其导电特性对杂质等十分敏感,因此必须首先制备高纯度的硅,然后精确控制掺杂元素的量和种类,并使它们均匀分布于材料之中。粗硅制取:高纯硅制取:新型无机非金属材料的品种:
(1)氧化铝陶瓷(人造刚玉) 特性:①高熔点 ②高硬度 ③可制成透明陶瓷用途:高级耐火材料,刚玉球磨机,高压钠灯的灯管等(2)氮化硅陶瓷& 特性:①高硬度,耐磨损 ②抗腐蚀。高温时抗氧化 ③抗冷热冲击 ④耐高温且不易传热 ⑤本身具有润滑性用途:制造轴承、汽轮机叶片、机械密封环、永久性模具等机械构件,用于制造发动机部件的受热面等
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氮化硅(Si3N4)是一种优良的高温结构陶瓷,在工业生产和科技领域有重要用途。I.工业上有多种方法来制备氮氦化硅,常见的方法有:方法一&直接氦化法:在℃时,高纯粉状硅与纯氦气化合,其反应方程式为&方法二&化学气相沉积法:在高温条件下利用四氯化硅气体、纯氦气、氢气反应生成氦化硅和HCl,与方法一相比,用此法制得的氦化硅纯度较高,其原因是 &。方法三& Si(NH&2)4热分解法:先用四氯化硅与氨气反应生成Si(NH&2)4和一种气体 &(填分子式);然后使Si(NH2)4受热分解,分解后的另一种产物的分子式为 &。II.(1)氨化硅抗腐蚀能力很强,但易被氢氟酸腐蚀,氨化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和一种铵盐,此盐中存在的化学键类型有 &。(2)已知:25℃,101kPa条件下的热化学方程式: 3Si(s)+2N2(g)==Si3N4(s)&&△H=—750.2kJ/mol Si(s)+2Cl2(g)==SiCl4(g)&&△H=—609.6kJ/molH2(g)+Cl2(g)==HCl(g) △H=—92.3kJ/mol请写出四氯化硅气体与氮气、氢气反应的热化学方程式: &。III.工业上制取高纯硅和四氯化硅的生产流程如下:已知:X,高纯硅、原料B的主要成分都可与Z反应,Y与X在光照或点燃条件下可反应,Z的焰色呈黄色。(1)原料B的主要成分是 &。(2)写出焦炭与原料B中的主要成分反应的化学方程式: &。(3)上述生产流程中电解A的水溶液时,阳极材料能否用Cu? &(填“能”或“不能”)。写出Cu为阳极电解A的水溶液开始一段时间阴阳极的电极方程式:阳极: &;阴极: &。
本题难度:一般
题型:填空题&|&来源:2011-安徽知名省级示范高中高三第一次联合统考(理综)化学部分
分析与解答
习题“氮化硅(Si3N4)是一种优良的高温结构陶瓷,在工业生产和科技领域有重要用途。I.工业上有多种方法来制备氮氦化硅,常见的方法有:方法一直接氦化法:在℃时,高纯粉状硅与纯氦气化合,其反应方程式为...”的分析与解答如下所示:
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回答:级别:二级教员 17:12:38来自:问吧专家团
氮化硅(Si3N4)是一种新型陶瓷材料,它可在高温下的氮气流中由石英与焦炭通过以下反应制得:3SiO2(s) + 6C(s) + 2N2(g) Si3N4(s) + 6CO(g) △H&0
完成下列填空:
(1)某温度下该反应在一容积为2L的密闭容器中进行,2min后达到平衡,刚好有2mol电子发生转移,则2min内反应的速率为:v(CO) =_1/12(单位略)_;该反应的平衡常数表达式为_K=c6(CO)/c2(N2)__ 。
(2)其它条件不变时仅增大压强,则_______C_________ 。
a.K值减小,平衡向逆反应方向移动
b.K值增大,平衡向正反应方向移动
c.K值不变,平衡向逆反应方向移动
d.K值不变,平衡向正反应方向移动
(3)一定条件下能说明上述反应已达平衡的是______Cd________ 。
a.c(N2 ) : c(CO) = 1:3 b.3v(N2 ) = v(CO)
c.固体质量不再改变 d.气体密度不再改变
(4)达到平衡后改变某一条件,反应速率v与时间t的关系
如右图所示。
若不改变N2与CO的量,则图中t4时引起变化的原因可能是___(无图难答)下同______;图中t6时引起变化的原因可能是__________________ 。
由图可知,平衡混合物中CO含量最高的时间段是_____________。
总回答数1,每页15条,当前第1页,共1页
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