运用au和al解释可柯肯达尔效应应.是怎么回事

君,已阅读到文档的结尾了呢~~
Prof. Daoheng Sun Lecture 3 Interconnect Packaging (1st Level)Prof,Sun,1st,)(3)
扫扫二维码,随身浏览文档
手机或平板扫扫即可继续访问
Prof. Daoheng Sun Lecture 3 Interconnect Packaging (1st Level)
举报该文档为侵权文档。
举报该文档含有违规或不良信息。
反馈该文档无法正常浏览。
举报该文档为重复文档。
推荐理由:
将文档分享至:
分享完整地址
文档地址:
粘贴到BBS或博客
flash地址:
支持嵌入FLASH地址的网站使用
html代码:
&embed src='/DocinViewer-4.swf' width='100%' height='600' type=application/x-shockwave-flash ALLOWFULLSCREEN='true' ALLOWSCRIPTACCESS='always'&&/embed&
450px*300px480px*400px650px*490px
支持嵌入HTML代码的网站使用
您的内容已经提交成功
您所提交的内容需要审核后才能发布,请您等待!
3秒自动关闭窗口工具类服务
编辑部专用服务
作者专用服务
基于Si基芯片的Au/Al键合可靠性研究
对集成电路中常见的Au、Al键合的可靠性进行研究,重点分析高温条件持续时间对引线键合的影响。采用镜检和拉力测试的方法对引线键合点的形貌和强度进行检验,并根据拉力测试数据拟合出高温时间与拉力的关系曲线。最后,基于固相反应原理,给出高温状态下Au-Al系统金属间化合物的演变过程分析。结果表明,Al/Au键合界面比Au/Al界面在高温环境下的可持续工作时间更长。
Abstract:
In the field of integrated circuit chip packages, gold and aluminum wire bonding are widely used for electrical and signal interconnections. The research on reliability of gold and aluminum wire bonding is presented. The infections of high temperature storage time at the intensity of wire bonding are analyzed mainly. The shape and intensity of bonds are examined by microscopy and tensile test. According to tensile data, the curves of relationship between time and tensility are fitted. Finally, the analysis on development of intermetallic compounds in Au-Al system at high temperature is presented based on the theories of solid state reaction. It is indicated from the results that the duration of operation at high temperature of Al/Au bond interfaces is longer than one of Au/Al bond interfaces.
WANG Hui-jun
CUI Hong-bo
作者单位:
中国电子科技集团公司第55研究所,江苏 南京,210016
年,卷(期):
Keywords:
机标分类号:
在线出版日期:
基金项目:
总装预研基金项目(项目编号)。
本文读者也读过
相关检索词
万方数据知识服务平台--国家科技支撑计划资助项目(编号:2006BAH03B01)(C)北京万方数据股份有限公司
万方数据电子出版社高Al组分n-AlGaN的Ti/Al/Ti/Au欧姆接触--《半导体光电》2012年02期
高Al组分n-AlGaN的Ti/Al/Ti/Au欧姆接触
【摘要】:采用Ti/Al/Ti/Au多层金属电极对高Al组分n-AlxGa1-xN(x=0.6)欧姆接触的制备进行了研究,通过优化Ti接触层厚度以及合金退火条件,获得了较低的比接触电阻率(5.67×10-5Ω.cm2)。研究证实,Ti接触层厚度对欧姆接触特性有着重要影响,同时发现,高低温两步退火方式之所以能够改善欧姆接触特性的本质是与Al3Ti及TiN各自的生成条件直接相关,即低温利于生成Al3Ti,高温利于生成TiN,而这对n型欧姆接触的有效形成至关重要。
【作者单位】:
【关键词】:
【分类号】:TN303【正文快照】:
0引言低阻欧姆接触的获得对于高性能(Al)GaN氮化物器件的研制至关重要。目前,对n-GaN以及低Al组分n-AlxGa1-xN(x0.3)欧姆接触的研究已经较为成熟,所得到的比接触电阻率已达到10-6~10-7Ω·cm2量级[1-4]。但对于应用于深紫外LED、PD等光电器件的高Al组分AlxGa1-xN(x0.45)而
欢迎:、、)
支持CAJ、PDF文件格式,仅支持PDF格式
【相似文献】
中国期刊全文数据库
管志斌,王立,江风益,叶建青;[J];功能材料与器件学报;2003年03期
张锦文,闫桂珍,张太平,王玮,宁宝俊,武国英;[J];半导体学报;2002年04期
王俊,赵德刚,刘宗顺,伍墨,金瑞琴,李娜,段俐宏,张书明,朱建军,杨辉;[J];半导体学报;2004年06期
;[J];;年期
;[J];;年期
;[J];;年期
;[J];;年期
;[J];;年期
;[J];;年期
;[J];;年期
&快捷付款方式
&订购知网充值卡
400-819-9993
《中国学术期刊(光盘版)》电子杂志社有限公司
同方知网数字出版技术股份有限公司
地址:北京清华大学 84-48信箱 大众知识服务
出版物经营许可证 新出发京批字第直0595号
订购热线:400-819-82499
服务热线:010--
在线咨询:
传真:010-
京公网安备75号

我要回帖

更多关于 柯肯达尔效应的意义 的文章

 

随机推荐