一维周期性什么是电介质材料料为何作为反射镜使用

CN 11-1958/O4
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吴惠彬, 张永发, 梅凤翔
物理学报. 2006, 55 (10): 4990
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能够用坦然的心态去面对失败,是我的一大兴事。
虽然自已能力有限,却对技术有着满腔的热情。
虽然自己天生愚笨,但却敢于向命运说不。
虽然自己成绩平平,但我却始终没有放弃!
深知自己在科学界不会有什么建树,能够在平凡的生活中发现乐趣,才是生活的真谛.
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历史上的今天
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半导体加工中,在晶片表面形成光刻胶图形,然后通过刻蚀在衬底或者衬底上面的薄膜层中选择性地除去相关材料就可以将电路图形转移到光刻胶下面的材料层上。这一工艺过程要求非常精确。但是,各种因素例如不断缩小的线宽、材料毒性以及不断变大的晶片尺寸等都会使实际过程困难得多
Applied Materials公司电介质刻蚀部总经理Brian Shieh说:“前段(FEOL)和后段(BEOL)电介质刻蚀的要求各不相同,因此要求反应器基本功能具有很大的弹性,对于不同的要求都能够表现出很好的性能。” ',
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一维金属介质光子晶体的理论研究
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