Cr2N(111)的111啥意思

【摘要】:本文利用直流反应磁控反应溅射技术在不锈钢基体上制备了硬质薄膜(Cr、CrN、 Ti-Si-N)利用XRD、SEM、EDS、TEM分析了薄膜的物相组成、晶体结构、表面形貌、组成成分;通过显微硬喥仪、摩擦磨损实验机测试了薄膜的硬度、磨损性能:研究了N2分压、靶功率、基体温度等条件对薄膜性能的影响,确定了制备硬质薄膜的最優工艺条件,并研究了Ti-Si-N薄膜的硬化机制。 基体温度400℃,Cr靶功率450W,Ar压强为0.4Pa时,Cr薄膜显微硬度达到最大值1680HvXRD分析表明制备的Cr薄膜,具有强烈的(110)择优取向。

【学位授予单位】:东北大学
【学位授予年份】:2011


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