为什么用紫外超分辨率光刻机线做光刻机的光束而不是伽玛射线

现在造台光刻机比原子弹还难那么有人就要问,凭什么是欧洲小国荷兰造出了顶级的光刻机竟然做到了连科技霸主美国都没有做到的事,因为它敢拼

这家公司刚成竝时,就遭遇了日本芯片巨头尼康和佳能的双重夹击由于不被母公司飞利浦重视,员工只能在板房里办公一出门看到的就是巨大的垃圾桶。

在坚持了十来年之后命运之神突然眷顾了这家公司,当时的光刻机市场出现了一个前所未有的平静65纳米的芯片制造工艺迟迟无法突破,导致芯片性能的进化也大大受阻这时日本双雄选择的技术路线是继续走稳健道路,采用波长更短的157纳米的激光光源更年轻的阿斯麦尔,决定放手一搏押上全部身家,押注一种更为先进的技术那就是浸润式光刻机。

当时来自中国台湾的一名工程师林本坚向阿斯麦尔提出,以水为介质可以制造浸润式光刻机,在镜头与晶圆曝光区域之间充满高折射率的水水对193纳米的紫外超分辨率光刻机光折射率为1.44,从而实现在水中等效果波长为134纳米有望一举实现45纳米以下制程,阿斯麦尔抓住了这个关键的技术转折点经过三年攻关,浸潤式光刻机终获成功这个大胆的押注,可以说是阿斯麦尔的诺曼底登陆之战

阿斯麦尔赢了,占有率由25%攀升至80%所谓敢拼才能赢,人生吔往往如此现在芯片厂商用的高端光刻机,90%都是阿斯麦尔生产台积电和三星每年为此抢破了头。

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