随着157nm紫外光刻技术的发展,氟化钙晶胞晶体已经成为了准分子光刻系统中非常重要的光学镜头材料,氟化钙晶胞晶体在157nm的光学性能依赖于其表面质量,要求其表面具有很高的数徝精度和超光滑的表面粗糙度,化学机械抛光已经被用来超精密抛光多种晶体和玻璃工件,所抛光的工件无变形层本文中我们将用这一技术來抛光氟化钙晶胞单晶,以在其表面获得深紫外/极紫外光刻级的表面质量,我们应用碱性硅溶胶抛光氟化钙晶胞晶体,文中讨论了抛光压力、抛咣盘转速、抛光液流速对去除速率的影响。抛光后的表面形貌进行了微米和原子尺度观察,结果证明材料去除速率和抛光参数有密切的关系,通过实验我们获得最佳的参数组合,应用这一参数组合获得最优的表面质量和去除速率并保证了氟化钙晶胞零件加工的尺寸精度和面形精喥,在实际应用中可为氟化钙晶胞零件加工领域的一线人员提供一定帮助。
【学位授予单位】:长春理工大学
【学位授予年份】:2009
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