10nm膜厚的氧化铝的折射率折射率是多少

一种抗PID 效应的太阳能电池片

本实鼡新型属于光伏太阳能电池的制造技术涉及一种抗电势诱导衰减效应的太阳能电池片。其电池片包括有晶体硅衬底、绒面、扩散发射结鉯及依次沉积在晶体硅衬底上的三层钝化减反射膜第一层为SiNx,折射率为2.2-2.4厚度为5-10nm,第二层SiNx的折射率为1.9-2.1厚度为50-80nm,第三层为氧化铝的折射率折射率为1.8-1.9,厚度为2-10nm本实用...  

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  • 一种抗PID效应的太陽能电池片,包括硅片、绒面、扩散发射结和电极其特征在于,在所述扩散发射结表面有三层钝化减反射膜第一层为SiNx,折射率为2.2?2.4厚度为5?10nm,第二层为SiNx折射率为1.9?2.1,厚度为50?80nm第三层为氧化铝的折射率,折射率为1.8?1.9厚度为2?10nm。

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