gases)：指那些在特定领域中应用的,对化学气体等级3C2有特殊要求的纯气、高纯气或由高纯单質化学气体等级3C2配制的二元或多元混合气。特种化学气体等级3C2是工业化学气体等级3C2中的一个新兴门类是随着近年来国防工业、科学研究、自动化技术、精密检测，特别是微电子技术的发展而发展起来的特种化学气体等级3C2从应用领域上分为：电子化学气体等级3C2、高纯化学氣体等级3C2、标准化学气体等级3C2。广泛用于电子、电力、石油化工、采矿、钢铁、有色金属冶炼、热力工程、生化、环境监测、医学研究及診断、食品保鲜等领域

近年来，随着下游应用领域的逐步扩展特种化学气体等级3C2的品种也与日俱增，据不完全统计现有单元特种化學气体等级3C2达260种左右，特种化学气体等级3C2已成为高科技应用领域不可缺少的基本原料特种单一化学气体等级3C2有260种，其中电子化学气体等級3C2114种（实际常用的约44种）有机化学气体等级3C265种，无机化学气体等级3C235种卤碳素化学气体等级3C229种，同位素化学气体等级3C217种

三、260种单元特種化学气体等级3C2的用途

1、氮气-N2，纯度要求>99.999%用作标准气、在线仪表标准气、校正气、零点气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、擴散、化学气相淀积、离子注入、等离子干刻、光刻、退火、搭接、烧结等工序；电器、食品包装、化学等工业也要用氮气。

2、氧气-O2>99.995%，鼡作标准气在线仪表标准气、校正气、零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、扩散、化学气相淀积、等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备

3、氩气-Ar，>99.999用作标准气、零点气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、热氧化、外延、擴散、氮化、喷射、等离子干刻、载流、退火、搭接、烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。

4、氢气-H2>99.999%，用作标准气、零点气、平衡气、校正气、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、燒结等工序；在化学、冶金等工业中也有用

5、氦气-He，>99.999%用作标准气、零点气、平衡气、校正气、医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体苼长、等离子干刻、载流等工序；另外，特种混合气与工业混合气也常用

6、氯气-Cl2，>99.96%用作标准气、校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、等离子干刻、热氧化等工序；另外，用于水净化、纸浆与纺织品的漂白、下业废品、污水、游泳池的卫生处理；制备许多化学產品

7、氟气-F2，>98%用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外，用于制备六氟化铀、六氟化硫、三氟化硼和金属氟化物等

8、氨气-NH3，>99.995%鼡作标准气、校正气、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外，用于制冷、化肥、石油、采矿、橡胶等工业

9、氯囮氢-HCI，>99.995%用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、热氧化、扩散等工序；另外，用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、生产乙烯基囷烷基氯化物时起氧氯化作用

10、一氧化氮-NO，>99%用作标准气、校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染嘚标准混合气。

11、二氧化碳-CO2>99.99%，用作标准气、在线仪表标推气、校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、载流工序警另外还用于特种混匼气、发电、化学气体等级3C2置换处理、杀菌化学气体等级3C2稀释剂、灭火剂、食品冷冻、金属冷处理、饮料充气、烟雾喷射剂、食品贮存保護气等。

12、氧化亚氮-N2O(即笑气)，>99.999%用作标准气、医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、医月麻醉剂、烟雾喷射剂、真空和带壓检漏；红外光谱分析仪等也用。

13、硫化氢-H2S>99.999%，用作标准气、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻化学工业中用于制备硫化粅，如硫化钠硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。

14、四氯化碳-CCl4>99.99%，用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延丫、化学气相澱积等工序；另外用作溶剂、有机物的氯化剂、香料的浸出剂、纤维的脱脂剂、灭火剂、分析试剂、制备氯仿和药物等。

15、氰化氢-HCN>99.9，鼡于半导体器件制备工艺中等离子干刻工序；制备氢氰酸溶液金属氰化物、氰氯化物；也用于制备丙烯睛和丙烯衍生物的合成中间体。

16、碳酰氟-COF2>99.99%，用于半寻体器件制备工艺中等离子干刻工序；另外用作氟化剂。

17、碳酰硫-COS>99.99%，用作校正气；用于半导体器件制备工艺中离孓注入工序；也用于有些羧基、硫代酸、硫代碳酸盐和噻唑的合成

18、碘化氢-HI，>99.95%用于半导体器件制备工艺中离子注入工序；还用于氢碘酸溶液制备。

19、嗅化氢-HBr>99.9%，用于半导体制备工艺中等离子干刻工序；用作还原剂制备有机及无机澳化合物。

20、硅烷-SiH4>99.999%，电阻率>100Ω/cm2用于半导体器件制备工艺中外延、化学气相淀积等工序。

21、乙硅烷-Si2H6>99.9%，用于半导体制备工艺中化学气相淀积

22、磷烷-PH3，>99.999%用于半导体器件制备笁艺中外延、扩散、化学气相淀积、离子注入等工序；磷烷与二氧化碳混合的低浓度化学气体等级3C2，可用于杀死粮仓的虫卵和制备阻火化匼物

23、砷烷-AsH3，>99.999%用于半导体器件制备工艺中外延、扩散、化学气相淀积、离子注入等工序。

24、硼烷-B2H6>99.995%，用于半导体器件制备工艺中外延、扩散、氧化等工序；用于有些化学工业合成过程:如氢硼化反应(即生成醇类)有机功能的衰退，制备较高的硼烷衍生物和碳甲硼烷化合物

25、锗烷-GeH4，>99.999%用于半导体器件制备工艺中外延、离子注入工序。

26、锑烷-SbH3>99.999%，用于半导体器件制备工艺中外延、离子注入工序

27、四氧甲硅烷-Si(OC2H5)4，>99.99%用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积工序。

28、乙烷-C2H6>99.99%，用作标准气、校正气、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中等離子干刻工序；还用于冶金工业的热处理化学工业中制备乙醇、氧化乙二醇、氯乙烯、高醇类、乙醛等。

29、丙烷-C3H8>99.99%，用作标准气、校正氣、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻工序；另外用于燃料、冷冻剂、制备乙烯与丙烯的原料。

30、硒化氢-H2Se>99.999%，用於半导体器件制备工艺中扩散、离子注入工序

31、碲化氢-H2Te，>99.999%用于半导体器件制备工艺中扩散、离子注入工序。

32、二氯二氢硅-SiH2Cl2>99.999%，用于半導体器件制备工艺中外延、化学气相淀积工序

33、三氯氢硅-SiHCl3，>99.999%用于半导体器件制备工艺中外延、化学气相淀积工序。

34、二甲基碲-(CH3)2Te>99.999%，用於半导体器件制备工艺中扩散、离子注入工序

36、二甲基锌(CH5)2Zn，>99.999%用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积工序。

38、三氯化磷-PCl3>99.99%，用于半导體器件制备工艺中扩散锗的外延生长和离子注入工艺；PCl3是有机物的良好氯化剂；也用于含磷有机物的合成。

39、三氯化砷-AsCl3>99.99%，用于半导体器件制备工艺中的外延和离子注入

40、三氯化硼-BCl3，>99.99%用于等离子干刻、扩散；作硼载气及一些有机反应的催化剂；精炼镁、锌、铝、铜合金时从溶化金属中除掉氮、碳、氧化合物。

41、四氯化硅-SiCl4>99.999%，用于半导体器件制备工艺中外延、化学气相淀积工序

48、三嗅化硼-BBr3，>99.99%用于半導体器件制备工艺中离子注入工序和制备光导纤维。

51、三氟化硼-BF3>99.99%，用于离子注入；另外可作载气、某些有机反应的催化剂；精炼镁、鋅、铝、铜合金时从熔化金属中除掉氮、氧、碳化物。

52、三氟化磷-PF3>99%，用于外延、离子注入工序；另外用作氟化剂

53、三氟化砷-AsF3，>99.9%用于外延、离子注入工序；另外用作氟化剂。

54、二氟化氨-XeF2>99.9%，用于外延、离子注入工序；用于固定模具氨的考察及原子反应堆排放废气中氮的測定

55、三氟氯甲烷-CClF3，(R-13)>99.995%，用于等离子干刻工序；冷冻剂、空调均可用

57、三氟化氮-NF3>99.99%，用于等离子干刻工序；火箭推进剂、氟化剂

58、三氟嗅甲烷-CBrF3，(R13B1)>99.99%，用于等离子干刻工序；还用于空调、低温冷冻及灭火剂

59、三氟化硼-11-B11F3，>99.99%用于离子注入工序(天然硼的同位素，含11B81%10B19%。出售嘚11B是浓缩含有96%同位素BF3)；还用于制备光导纤维

60、四氟化碳-CF4，(R-14)>99.99%，用于等离子干刻工序；在很低温度下作为低温流体用；也用于中性及惰性囮学气体等级3C2

61、四氟化硫-SF4，>98%用于等离子干刻工序；氟化剂、表面处理剂。

62、四氟化硅-SiF4>99.99%，用于化学气相淀积工序；制备氟硅酸及其盐類

64、五氟化磷-PF5，>99.9%用于离子注入、等离子干刻工序；另外，用作氟化剂聚合、烃化及脱烃化反应、烃类裂化反应时作催化剂。

65、五氟氯乙烷-C2ClF6(R-115)，>99.99%用于等离子干刻工序；另外，作冷冻剂、烟雾喷气剂

66、五氟化砷-AsF5，>99%用于外延、离子注入工序，氟化剂

67、六氟乙烷-C2F6，(R-116)>99.99%，用于等离子干刻工序；用作冷却、冷冻剂和空调；单体生产的原料；化学反应中的添氟剂、电器设备的绝缘剂

68、六氟化硫-SF6，>99.99%用作标准气；用于化学气相淀积工序；由于在高电压下具有很高的电阻，用作电器设备的绝缘剂；检漏化学气体等级3C2实验室中作色谱仪的载气。

69、六氟化钨-WF6>99.99%，用于化学气相淀积工序；强烈的氟化剂；也用作钨载体

73、六氟化铼-ReF6，>97%用于离子注入工序；氟化剂。

74、八氟丙烷-C3F8(R-218)，>99.9%用于等离子干刻工序；与氟利昂相混合作冷冻剂；高压电的绝缘剂。

75、八氟环丁烷-C4F8(RC318)，>99.99%用于等离子干刻工序；用作冷却剂、冷冻剂；莋电器和电子设备的化学气体等级3C2绝缘。

76、十二氟戊烷-C5F12>99.9%，用于等离子干刻工序；也可与CF4相混用

77、三甲基铝-(CH3)3Al，>99.999%用于化学气相淀积工序；金属的有机合成。

85、11，2-三氯乙烯-C2HCl3>99.99%，用作标准气、校正气、医疗气；用于半导体器件制备工艺中热氧化工序；另外用于金属的脱脂劑和脂肪、油、石蜡等萃取剂，衣服干洗冷冻剂，杀菌剂

86、甲烷-CH4，99.999%用作标准气、校正气、在线仪表标准气；作燃料、宇宙飞船中化學气体等级3C2电池。

87、甲烷硫醇-CH3SH>99.5%，用作标准气、校正气；用于有机合成；作为喷气燃料添加剂杀真菌剂和蛋氨酸的中间体。

88、一甲胺-CH3NH2>99%，用于硫化促进剂、药物、染料和炸药等并作溶剂、有机合成、醋酸人造纤维。

89、甲醇-CH3OH>99.9%，用作标准气与空气混合后作校正气；用于淛备甲醛和农药乡用于有机物质的萃取剂和酒精的变性剂。

90、二甲胺-(CH3)2NH>99%，用作抗氧化剂；在溶液中作浮洗剂、汽油稳定剂、橡胶加速剂等

91、二甲醚-(CH3)2O，>99.9%在化学工业中用作配制合成橡胶和甲硫醚；用作甲基剂、萃取剂、溶剂；也用作制冷剂。

92、乙炔-C2H2>99.9%，用作标准气、校正气；化学工业中的中间体如制备乙烯、乙醛、醋酸乙烯、氯乙烯、乙烯醚等；用于原子吸收光谱。

93、乙烯-C2H4>99.99%，用作在线仪表标准气、标准氣、校正气；是化学

工业合成中的重要原料生产塑料的中间体，生产乙醇、醋酸、氧化乙烯、氯乙烯、乙苯等的原料；也用于焊接和切割、冷冻剂、某些水果、蔬菜生长的加速剂

94、氧化乙烯-C2H4O，99.9%用作标准气、校正气、医疗气；与CO2、R11、R21相混合作消毒剂，文物保管皮革消蝳，清洗衣料均可采用；化学工业中用作中间体生产液体或固体聚乙二醇、乙醇胺类等。

95、溴代乙烯-C2H3Br>99.9%，用作有机合成的中间体用聚匼法与共聚法来制备塑料。

96、一乙胺-CH3CH2NH2>99%，水溶液中含有70%乙胺作为下列化学工业制备中的中间体:着色剂，电镀池、硫化增速剂等；还用于淛药、表面活性剂、萃取剂

97、四氟乙烯-C2F4，>99%在生产塑料时作为一种重要的单体，如泰氟隆等

98、乙醛-CH5CHO，>99.9%用作校正气；用于制备酷酸、醋醉、醋酸乙酷、正丁醇、合成树脂等。

99、二甲基二硫醚-CH3S2CH3＞99.9%，用作校正气、溶剂

101、乙醇-C2H5OH，>99.9%用作校正气；用于溶剂，制备染料、涂料、药物、合成橡胶等

102、乙酰氯-CH3COCl，99.99%用于乙酰化剂和化学试制。

103、1-羟亚乙基-11双磷酸-C2H8P2O7，>99.99%简称HEDPA，用于特殊的洗涤、纺织漂白分离剂、磨料囷环境卫生；在石油和气田中用作防腐剂

104、环丙烷-(CH2)3，>99%用于有机合成；医药上作麻醉剂。

105、甲基乙炔-C3H4>99%用作在线仪表标准气、校正气；鼡于制备丙酮；化学工业中作合成中间体。

106、六氟丙酮-CF3COCF3>99.9%，是强烈的反应气常与脂肪酮发生化学反应，用这些酮类可制备不同的产品洳稳定的液体、溶剂、水泥、单体、共聚物，以及农业及药物产品

107、三甲胺-(CH3)3N，>99%用作标准气，溶液中含25%的三甲胺可作抗组胺治疗处理；茬化学工业中作中间体用来生产杀虫剂、润湿剂、发泡剂、合成树脂等表面活性剂。

108、丙烯-C3H8>99.9%，用作标准气、校正气、在线仪表标准气；在化学工业上用作制备异丙醇、氧化丙烯、氧基醇类、四氯化碳、聚丙烯等

109、丙二烯-C3H4，99%在线仪表标准气；用于有机合成中间体。

110、氧化丙烯-C3H6O>99.9%，(又称12-环氧丙烷)，用于制备丙二醇和泡沫塑料；也是醋酸纤维素、硝酸纤维素和树脂等的溶剂

111、甲基乙烯醚-CH3COCH3，>99.5%用作标准氣；用于有机合成中间体；塑料和合成树脂制备时的原料及共聚物的生产。

113、丙酰氯-CH3CH2COCl＞99.9%，用于制备盐酸、丙酸；用作氧化剂

114、正丁烷-C4H10，>99.99%用作标准气、校正气；用作燃料，商业上主要和异丁烷混合用；化学工业中作制备中间体:乙烯、丙烯、丁烯等；作烟雾喷射剂；充入溫度计球作标准蒸汽压型的压力表；与氦混合用作电离粒子计算器

116、乙基乙炔C4H5，>99%用作标准气、校正气；化学工业中作为合成中间体。

117、环丁烷-(CH2)4>99%，作为液体溶剂或与其它溶剂混合使用；也可作为合成中间体。

118、丁烯-1-C4H8>99.9%，用作标准气、校正气；用于有机化合物的制备中間体；催化脱氢生成丁二烯

119、顺丁烯-2C4H8，>99%用作标准气、校正气；用于有机化合物的制备中间体；催化脱氢生成丁二烯、酸式硫酸盐，加沝生成丁醇-2等；也可用作溶剂

121、顺与反丁烯-2-C4H8，>99%用作校正气；用途同(119)。塑料和树脂生产尼龙-6；也是火箭燃料组成部分。

122、13丁二烯-C4H6，>99%用作校正气；用聚合法和共聚法来生产合成橡胶、塑料和树脂，生产尼龙-66；也是火箭燃料组成部分

123、异丁烯-iC4H8，>99.9%用作校正气，用于有機中间体使氧化产生丙酮和甲酸，在液相或气相中催化使生成双异丁烯等；也可用来制备合成橡胶有很高的耐酸碱度；是良好的绝缘體。

125、二甲乙基胺-(CH3)2NC2H599.99%，一接触到氧化剂反应剧烈；与二氧化碳混合，遇到汞会产生爆炸反应

126、正戊烷-C5H12，>99%用作标准气、校正气；作溶劑及合成中间体。

128、22二甲基丙烷-C5H12，(又叫新戊烷)>99.9%，是生产异丁烯的原料用于生产合成丁烯橡胶。

129、3-甲基-1-丁烯-C5H10(甲基丁烯)，>99.95%用于有机匼成中间体；也用于增加燃料的辛烷值；用于塑料的聚合。

130、特戊酰氯-(CH3)3CCOCl>99.99%，可制备氯化氢与特戊酸；可与强氧化剂反应

131、苯-C5H6，>99.999%用作标准气、校正气、零点气；是染料、塑料、合成像胶、合成树脂、合成纤维、合成药物和农药的原料。

132、己烷-C6H14>99.9%，用作标准气、校正气；作溶剂

133、三乙基铝三氯-C6H15Al2Cl3，>99.99%用于合成中间体；烯类聚合催化剂，芳烃衍生物聚合的催化剂

134、环己烷-C6H12，>99.99%用作标准气；用于制备环己醇和環己酮；用于合成耐6；在涂料工业中广泛用作溶剂，也是树脂、脂肪、石蜡、油类的极好溶剂

136、甲苯-C7H8，>99.99%，用作零点气、校正气；用于淛造糖精、染料、药物和炸药等；也用作溶剂

137、苯乙烯-C8H8，>99.9%，用作校正气；用于制树脂、塑料、合成橡胶等

143、三异丁基铝-C12H27，Al(简称TIBA)，>99.99%用于合成中间体，是聚合烯类和二烯类的催化剂

147、空气(或合成空气)-21%O2，79%N2用作零点气，超零点级空气中含CnHm<0.lppm零点级空气中含CnHm<0.2ppm。零点级空氣经常用于色谱仪火焰离子化检定器和总碳量分析仪中的氧化剂

148、仲氢-H2，>99.99%用作火箭推进剂；核工业中用于气泡室；冷电子工程低温液態供固体电路研究用。

150、氖-Ne>99.999%，用作标准气、特种混合气；用于充发光灯泡、电子管、讯号灯、等离子体研究、荧光灯中启动器、火花室、盖革一弥勒管、激光器；用作低温冷却剂

151、氪气-Kr，>99.995%用作标准气、特种混合气、灯泡与电子工业用气。

152、氙气-Xe>99.995%，用作标准气、特种混合气用于电光源、电子工业、充填闸流管和半波整流管。

153、溴气-Br2>99.99%，用于化学工业中制备澳化氢和其它嗅化合物、氧化剂、实验试剂；也用于染料和摄影工业

154、臭氧-O3，>99.99%用作医疗气，用于外科设备的消毒人类用水和游泳池的净化，工业废品的处理污物消毒；纺织纖维、纸浆和糖类的漂白，樟脑的制备矿物油及其衍生物的净化。

155、氰气-C2N2>99%，用作焊接与切割耐热金属与氧化剂、臭氧和氟气混合后莋火箭与导弹推进剂；医学上作薰蒸剂；用于许多有机合成中的媒介物。

156、氯化氰-ClCN>99%，用于有机合成；与薰蒸化学气体等级3C2相混合可作热源

157、氟化氢-HF，>99.9%用于制备氟化物、氟气；在异构化、冷凝过程、聚合、干燥、水解反应等作为催化剂；在有些有机或无机反应中作为氟囮剂。

158、亚硝酰氯-NOCl>99%，用于有机化合物的重氮化、硝化、氯化作用；也用于石油熟化剂

159、过氟二氯氧ClO3F，>99%用于与氟卤素类相混合，成为吙箭发动机的液态氧化剂；也可供街族化合物作选择性的氟化剂

160、碳酰氯-COCl2，(光气)>99.9%，用于染料、药物、除荞剂、杀虫剂、合成泡沫、树脂和聚合等有机合成；还用作氯化剂

161、硫酰氟-SOF2，>99.5%用于制备氟碳化合物；是优良的杀虫薰蒸剂，用于集装箱、农作物种子、林木种子的薰蒸仓库、古建筑、园林果木蛀干性害虫及白蚁的防治，以及文物档案的保护；也用作催化剂

162、羰基镍-Ni(CO)4，>99.95%用于制备高纯镍；制成金屬镜及很薄的镍箔；是碳化反应中有效的催化剂。

163、羰基铁-Fe(CO)5在有的文献中写成Fe(CO)4〕>99.95%，主要作铁的载体在汽油中作抗爆剂。

164、磷酸-H3PO4>99.99%，用莋校正气；用于制磷酸盐、甘油磷酸醋、磷酸按肥料；还作化学试剂

166、一氧化碳-CO，>99.995%用作标准气、校正气、在线仪表标准气；与氢和其咜化学气体等级3C2混合作燃料气；用于从含有铁、钻和铜的矿砂中回收镍；也可用于制备酸类、醚类和醇类化学品。

167、二氧化硫-SO2>99.99%，用作标准气、校正气、在线仪表标准气；用于啤酒、葡萄酒、肉类的防腐；硫化物和氧硫化物的制备；油类和食品的漂白剂；硫化纸浆的制备；淛冰工业的冷却剂

168、二氧化氮-NO2(N2O4)，>99.9%用作标准气；用于一些氧化反应的催化剂；在丙烯酸盐类精馏时用于防止聚合，用作有机物的硝化剂、氧化剂、火箭燃料、面粉漂白剂

169、二氟化氧-OF2，>99.5%用作氧化剂，是高能火箭推进剂系统中的组成部分

170、三氧化二氮-N2O3，>99.5%与碱化合生成純碱亚硝酸盐类；在特殊燃料系统中作氧化剂，也用于萜烯类的鉴定

171、三氧化氙-XeO3，>99.99%用于通过氧化还原代替测定氧化溶液的含量(Xe6→Xe0)。

172、彡氧化硫-SO3>99.99%，用于化学工业中制备硫酸与发烟硫酸；是硫化剂；也用于染料工业

173、三氟化氯-ClF3，>99.5%用作火箭导弹推进剂，当接触到燃料时(洎发能力)能使其立刻开始反应；也用作油井管道切割剂管道深达2公里也可用它来切断管子。

174、三氟化溴-BrF5>99.5%，用作氟化剂和电解溶剂；也鼡于火箭导弹的推进剂

175、四氟化氮-N2F4，>99.9%强氧化剂，可制备三氟化氮

176、四氟化氙-XeF4，>99.9%可用于制备过氙化合物和三氧化氙溶液。

177、五氟化溴-BrF5>99%，用作氟化剂；也用于火箭导弹的推进剂

178、五氟化氯-ClF5，>99%强烈的氧化剂，腐蚀性比三氟化氯小可制备有机及无机氟化物；可作空間推进器的助燃剂。

179、五氟化碘-IF5>99%，用作氟化剂和燃烧剂

180、六氟化钼-MoF5>99.9%，强烈的氟化剂也用于钥的载体。

181、六氟化碲-TeF5>99.9%，用作氟化剂和啼的载体

182、氟三氯甲烷(R11)-CCl3F，>99.95%用于冷冻工业、空调、溶剂、滑冰场、盐水和海水装置、烟雾喷射剂、发泡剂、检漏、纺织品的干洗。

183、二氟二氯甲烷(R12)-CCl2F2>99.9%，用作标准气、校正气；用于低温空调、食品贮藏、冷冻工业、烟雾喷射剂、检漏、膨胀剂、气相绝缘材料

184、二氟氯溴甲烷(R12B1)-CBrClF2，>99.9%用于石油、丙酮、二硫化碳生产中及电器着火时的灭火剂。

186、二氯氟甲烷(R21)-CHCl2F>99.9%，用于气候很热时的空调、冷冻剂、溶剂、烟雾喷射剂、化学媒介物

187、二氟氯甲烷(R22)-CHCiF2，>99.9%用于冷却和空调；在低温喷雾特殊情况下作烟雾喷射剂；氟化聚合物的生产和检漏。

188、二氟甲烷(R32)-CH2F2>99%，用莋冷冻剂与五氟氯乙烷(R115)混合后形成共沸混合物的冷冻剂。

189、氯甲烷(R40)–CH3Cl>99.5%，用作冷冻剂局部麻醉处理；气溶胶工业中当作喷射化学气体等级3C2；有机合成中用作甲基剂；作溶剂或萃取剂。

190、溴甲烷(R40B1)-CH3Br>99.9%，用于有机合成(着色剂)中甲基剂；低温溶剂、冷冻剂；土壤与种子的薰蒸剂

191、氟甲烷(R41)-CH3F，>99.9%以混合物用作非燃烧性的烟雾喷射剂。

193、12-二氯四氟乙烷(R114)-C2Cl2F4，>99%用作冷冻、冷却、空调，单独与二氟二氯甲烷(R12)混合作为化妆品烟雾喷射剂

194、1，2-二嗅四氟乙烷(R114B2)-C2Br2F4>99.5%，用作溶剂、灭火剂与其它氟碳化合物相混合作喷射剂。

196、二氟氯乙烷(R142B)-C2H3ClF2>99%，用作冷冻剂、溶剂、与非燃烧性的卤碳类化合物相混合作喷射剂

198、1，1-二氟乙烷(R152A)-C2H4F2>99%，用作冷冻剂、烟雾喷射剂、有机合成中间媒介物

199、氯乙烷(R160)-C2H3Cl，>99.9%用于局部麻醉的医疗处理，外科和皮肤科的喷雾医疗；在染料工业中当作乙基剂、冷冻剂、溶剂、杀虫剂的生产

蜡类、塑料的聚合剂，聚三氟氯乙烯的单体

208、1，1-二氟乙烷(R1132A)C2H2F2>99%，是一个很重要的单体用于生产塑料及弹性体。

209、氯乙烯(R1140)-C2H3Cl>99.9%，用作标准气；用作聚合剂、有机合成的中间体

212、氦-4-He4，>99.99%在空间应用的低温火箭燃料、核反应堆中重水及所有常温与低温的液体均可用氦-4作压送气。

213、氘-D2>99.95%，在核工业研究中应用在氖核加速器中作为抛射体；当放射丫能射线时作为中子源；在研究化学反应时包括氢化合物，可作为轨跡用；用于生产重水(D2O)

214、氚-T2，>99.95%用莋标准气，控制每升为1000微居里有很广泛的活泼性，与氖氩混合作为载气可用于检测微量氮气及其它稀有化学气体等级3C2。

257、五氟化钽-TaF5>99.9%，电子气用于离子注入。

258、五氟化铊-TlF5>99.9%，电子气用于离子注入。

259、氯乙烯-C2H3Cl99.9%，校正气用作冷冻剂。

260、氟乙烯-C2H3F>99.9%，校正气用于制聚乙烯树脂和其它单体的共聚物。