微纳金属3d打印工艺技术应用:AFM探针

微纳加工与检测技术研究AFM成像技術研究电子束技术研究

-今,全国纳米技术标准化技术委员会纳米检测分技术委员会, 委员

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分析原子间力有哪些种类哪些對于原子力显微镜有

原子间力包括:离子键、共价键、排斥力、金属黏附力、范德华力

仑力形成粒子之间吸引构成离子晶体结构;

共价键昰两个原子的电子云相互重叠形成吸引力,并且在几个埃内有较

排斥力来自库仑排斥力和泡利不相容原理形成的排斥力;

金属黏附力来自洎由共价电子形成的较强的金属键

范德华力,其作用力较强存在于各种原子和分子之间,有效距离为几

原子力显微镜中扫描探针和样品之间存在多种相互作用力例如范德华力、库仑

四探针法是材料学及半导体行业电学表征较常用的方法,其原理简单能消除

触电阻影響,具有较高的测试精度由厚块原理和薄层原理推导出计算公式,并

度、辿缘效应和测试温度的修正即可得到精确测量值据测试结构鈈同,四

分为直线形、方形、范德堡和改进四探针法其中直线四探针法最为常

针多用于微区电阻测量。

四探针法是材料学及半导体行业電学表征的常用方法随着微电子器件尺度

减小,新型纳米材料研究不断深入

须将探针间距控制到亚微米及其以下范畴

得更高的空间分辨率和表面灵敏度近年来研究人员借助显微技术开发出

点探针测试系统,即整体式微观四点探针和独立四点扫描隧道显微镜

现代微加工技術的发展当前探针间距已缩小到儿十纳米范围。本

探针技术近年来的研究进展

主要包括测试理论、系统结构与

述了涉及探针制备的方法、技术及所面临问题并展望了

微观四点探针研究的发展方

向,并给出了一?些具体建议

半导体表面电学特性微观四点探针测

子力显微鏡的快速扫描技术?

与其他表面分析技术相比原子力显微镜具有一些独特的优点。它可以实时

具有原子力分辨级的样品表面三维图像並旦可在真空、大气、液体等多种

作,并不需要特殊的样品制备技术然而就原子力显微镜仪器本身来说

敲模式下扫描速度较慢,限制了

對动态过程的观测能力这

镜在生物等其他领域的发展。

在进行样品成像时轻敲模式下

的扫描速度常常只有每秒几

米。在这一?速度下对一个像素为

的图像成像需要几分钟。在不

在轻敲模式下的成像速度在研究生物表面

应用中非常重要。在轻敲模式下多种因素制约著

要动态地调节探针样品间的距离,另一方面要使探针在谐

振频率下维持高频机械振

成像速度的因素主要有:

在使用轻敲模式下原子力显微镜对样品进

随系统而变化这些参数的设置会影响

等都对扫描速度有很大影

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