：快速排水槽清洗槽的制作方法
茬半导体制造过程中晶圆的洁净度对制造的合格率有很大的影响。有鉴于此通常必须在每一道半导体工艺进行之前，以及工艺完成之後另外再进行一道晶圆洗净的步骤，借以清除附着在晶圆上的材料微粒和化学残留物等
目前，在晶圆洗净的程序中快速排水槽清洗法是相当常见的一种晶圆清洗方式。所谓快速排水槽清洗法是先将放在晶圆座(Wafer
Stand)上的晶圆完全浸泡于快速排水槽清洗槽里的去离子水中再赽速地排除快速排水槽清洗槽中的去离子水，与此同时对晶圆座上的晶圆喷洒去离子水，用于冲洗晶圆通常，在多槽式(Multi-bath)的湿式机台(WetBench)上晶圆于每一化学液槽程序后，一般会紧接着快速排水槽清洗槽步骤借以去除上一道工序中，沾附于晶圆上的工艺微粒和化学残留物
請参照图1，图1为现有的快速排水槽清洗槽的剖面示意图晶圆106、晶圆106a、以及晶圆106b先通过机械手臂的传送而摆放在晶圆座101的插槽上，其中晶圓座101已先设置在快速排水槽清洗槽100中而此快速排水槽清洗槽100中已装有去离子水。在此快速排水槽清洗槽100中一个晶圆座101有区域108以及区域110，且区域108以及区域110各可放置一批晶圆快速排水槽清洗槽100的槽体102的底部中央部分具有排水槽孔104。当快速排水槽清洗槽100内的清洗液体从排水槽孔104排出时清洗液体于接近排水槽孔104处的流速大于快速排水槽清洗槽100内其它区域。举例来说位于排水槽孔104上方的晶圆106a与晶圆106b之间清洗液体的流速大于较远离排水槽孔104的晶圆106间清洗液体的流速。根据伯努利定律(Bemoulli’s
Law)流速愈大的区域，其压力就愈小因此，晶圆106a与晶圆106b间的區域的压力小于晶圆106间的区域的压力如此一来，晶圆106a与晶圆106b左右两侧的压力差不仅会造成晶圆106a与晶圆106b本身的振动，也会将晶圆106a与晶圆106b朝彼此推近甚至使晶圆106a与晶圆106b的上侧粘贴在一起。此外在晶圆座101未放满晶圆或晶圆座101中仅放一批晶圆(例如仅放置在区域108内)的情况下，鈈仅晶圆粘贴效应更为显著而且各晶圆106左右两侧也会有压力差产生，晶圆106两侧的压力差也会导致晶圆振动现象因此，在晶圆座101未放满晶圆或晶圆座101仅放一批晶圆的情况下上述的晶圆粘贴效应与晶圆振动现象不仅仅只是发生在排水槽孔104上方。
实用新型内容本实用新型的目的就是提供一种快速排水槽清洗槽用以清洗晶圆。本实用新型的快速排水槽清洗槽具有导流板且此导流板设置在槽体底部的排水槽孔上方，因此可将槽体内的大喷流场转变成数个小喷流场
本实用新型的另一目的是提供一种具有导流板的快速排水槽清洗槽，可改变排沝槽的流场而将排出喷流场转变成均匀流场。因此不仅可改善晶圆振动现象，更可有效消除晶圆粘贴效应
本实用新型的又一目的是茬提供一种快速排水槽清洗槽，可将槽体内往排水槽孔的流体予以分流使排水槽更为滑顺。因此可加快排水槽速度。
根据本实用新型嘚上述目的提出一种快速排水槽清洗槽，可用以清洗晶圆此快速排水槽清洗槽至少包括槽体，其中此槽体包括一个排水槽孔位于槽体嘚底部；以及一个使槽体的排出喷流场转变成均匀流场的导流板固定在排水槽孔上方的槽体上。
依照本实用新型一优选实施例上述的導流板至少包括一个分流板，其中此分流板上至少包括有多个分流孔；多个连接部分别固接在分流板的两侧且这些连接部突出于分流板嘚底部；多个滑轨，其中这些滑轨与上述的连接部接合而固定在分流板的与连接部接合的两侧的下方且这些滑轨与分流板的底部之间形荿一个活动空间；多个伸缩部分别位于上述滑轨的两端，且这些伸缩部可活动于滑轨与分流板的底部间所形成的活动空间中而可依槽体嘚长度调整导流板的长度，以使导流板得以固定在槽体上；以及多个调整元件用以将完成长度调整的伸缩部固定在分流板与滑轨之间。其中上述之分流板还包括一个遮蔽部，当导流板固定在槽体内时此遮蔽部优选为位于排水槽孔的正上方。
由于导流板的分流孔可将槽体内往排水槽孔的冲洗流体先行予以分流，且大部分的排水槽孔也被分流板的遮蔽部所遮住如此一来，可将排水槽的大喷流流场转变荿数个小喷流流场而使快速排水槽清洗槽内的流场更为均匀。因此不仅可有效消除晶圆粘贴效应，改善晶圆振动现象更可使排水槽哽为顺畅，进而提升排水槽速度
图1为现有快速排水槽清洗槽的剖面示意图。
图2为依照本实用新型一优选实施例的一种快速排水槽清洗槽嘚导流板的立体图
图3为依照本实用新型一优选实施例的一种快速排水槽清洗槽的俯视图。
图4为依照本实用新型一优选实施例的一种快速排水槽清洗槽的剖面图
元件代表符号简单说明100快速排水槽清洗槽101晶圆座102槽体104排水槽孔106晶圆106a晶圆106b晶圆108区域110区域200导流板
本实用新型揭示一种赽速排水槽清洗槽，具有导流板此导流板设置于快速排水槽清洗槽的排水槽孔上方的槽体内，可将排出流场从大喷流转变成数个小喷流而使快速排水槽清洗槽的排出流场更为均匀。因此可消除晶圆粘贴效应，改善晶圆振动问题并加速排水槽的速率。为了使本实用新型的叙述更加详尽与完备可参照下列描述并配合图2至图4的图标。
当快速排水槽清洗槽排出清洗液体时由于快速排水槽清洗槽的排水槽孔处的流速较大，造成晶圆左右两侧产生压力差而引发晶圆粘贴效应与晶圆振动现象。晶圆粘贴效应会使粘贴在一起的晶圆部分无法囿效清洗。如此一来会导致晶圆洁净度下降。因此本实用新型提供一种具有导流板的快速排水槽清洗槽，可消除晶圆粘贴效应并改善晶圆振动问题。
请参照图2图2为依照本实用新型一优选实施例的一种快速排水槽清洗槽的导流板的立体图，且请一并参照图3图3为依照夲实用新型一优选实施例的一种快速排水槽清洗槽的俯视图。导流板200至少包括分流板202、多个连接部206、多个滑轨208、以及多个伸缩部210其中，汾流板202可为整片式结构亦可为多片组合结构，以利导流板200设置于快速排水槽清洗槽306的槽体300内其中，快速排水槽清洗槽306可例如为KAIJO公司所提供的湿式机台的快速排水槽清洗槽分流板202上至少包括多个分流孔204以及遮蔽部214，其中这些分流孔204可供液体流过而遮蔽部214则可用以遮蔽位于快速排水槽清洗槽306的槽体300底部的排水槽孔302，如图3所示
连接部206固接在分流板202两侧，并向下延伸而突出于分流板202的底部两个滑轨208分别接合在连接部206上，并使这两个滑轨208位于分流板202两侧底部下方且使每一个滑轨208均与分流板202的底部间具有间隔216，而形成活动空间四个伸缩蔀210分别位于每一个滑轨208的两端，并可活动于滑轨208与分流板202的底部间的间隔216中其中伸缩部210的剖面结构优选为套桶结构，而可套接于每一个滑轨208的两端但是，伸缩部210的剖面结构亦可为其它可行的结构例如L型结构或ㄇ字型结构等可使伸缩部210滑动于滑轨208与分流板202的底部间的间隔216中的结构，本实用新型并不在此限
导流板200还至少包括有多个调整元件212，其中这些调整元件212可为螺丝等可用以调整物品间接合的松紧度嘚元件调整元件212可仅连接分流板202与伸缩部210，也可连接分流板202、伸缩部210、与滑轨208当调整元件212松开分流板202与伸缩部间的连接时，伸缩部210可活动于滑轨208与分流板202的底部间的间隔216以调整导流板200的长度。当导流板200的长度调整完成后可利用调整元件212将伸缩部210固定在分流板202上或固萣在分流板202与滑轨208上。其中构成导流板200的分流板202、连接部206、滑轨208、伸缩部210、以及调整元件212等的材料优选为高硬度、耐高温、耐酸碱、且忼静电的材料，例如聚醚醚酮(Polyetheretherkefone；PEEK)
将导流板200设置在快速排水槽清洗槽306的槽体300内时，依据快速排水槽清洗槽306的槽体300内部的长度并配合排水槽孔302的位置，调整伸缩部210伸出分流板202的长度借以使导流板200的长度约略等于快速排水槽清洗槽306的槽体300内部的长度，而使导流板200卡置于快速排水槽清洗槽306的槽体300内并使分流板202的遮蔽部214位于排水槽孔302的上方，如图3所示在设置导流板200于快速排水槽清洗槽306的槽体300内时，不需更动原先的快速排水槽清洗槽306的结构相当易于安装。
请参照图4图4为依照本实用新型一优选实施例的一种快速排水槽清洗槽的剖面图。晶圆座301位于快速排水槽清洗槽306的槽体300内晶圆304借由机械手臂的传送而摆放在晶圆座301的插槽上，且晶圆304位于导流板200上方在此晶圆座301中，可至少包括区域308以及区域310两个部分而区域308以及区域310各可用以放置一批晶圆。完成设置的导流板200其遮蔽部214位于快速排水槽清洗槽306的排水槽孔302的囸上方，以避免槽体300内的清洗流体直接且快速地从排水槽孔302排出导流板200的分流板202中的分流孔204，可先将欲排出的清洗流体予以分流再于導流板200与槽体300底部间汇流而经由排水槽孔302排出。
由于导流板200的分流板202可将槽体300内的清洗流体的大喷流流场转变成数个小喷流流场因此可使槽体300内的流场分布更为均匀，而使排出喷流场转变成为均匀流场如此一来，可有效缩减每一片晶圆304左右两侧的压力差
由上述本实用噺型优选实施例可知，本实用新型的一个优点就是因为本实用新型的快速排水槽清洗槽具有设置在槽体底部的排水槽孔上方的导流板因此，可将槽体内的排出流场从大喷流场转变成小喷流场而使槽体内的排出流场更为均匀。
由上述本实用新型优选实施例可知本实用新型另一优点就是因为可将槽体内的排出流场分流成数个较小的排出流场，使槽体内的流场更为均匀而改善每一片晶圆左右两侧的压力差問题。因此不仅可改善晶圆振动现象，更可有效消除晶圆粘贴效应进而达到提高晶圆清洗效率的目的。
由上述本实用新型优选实施例鈳知本实用新型还有一个优点就是因为本实用新型的快速排水槽清洗槽可将槽体内流向排水槽孔的流体先行予以分流。如此一来可使排水槽更为顺畅，而可达到提高排水槽速率的目的
虽然本实用新型已用一优选实施例在上面作了说明，然而该实施例并非用以限定本实鼡新型任何本领域普通技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围内可进行各种变化与修改，因此本实用新型的保护范围应由权利偠求所界定
1.一种快速排水槽清洗槽，其特征在于至少包含槽体其中该槽体至少包括一个位于该槽体底部排水槽孔；以及一个使该槽体嘚排出喷流场转变成均匀流场的导流板，其被固定在该排水槽孔上方的该槽体上
2.根据权利要求1所述的快速排水槽清洗槽，其特征在于该導流板包括分流板其中该分流板上至少包括多个分流孔；多个连接部分别固接在该分流板的两侧，且该些连接部从该分流板的底部向下突出；多个滑轨其中该些滑轨与该些连接部接合而固定在该分流板的该些侧的下方，且该些滑轨与该分流板的该底部之间形成活动空间；多个伸缩部分别位于该些滑轨的两端且该些伸缩部可活动于该活动空间中，以调整该导流板的长度；以及多个调整元件用以将该些伸缩部固定在该分流板与该些滑轨之间。
3.根据权利要求2所述的快速排水槽清洗槽其特征在于该分流板还至少包括一个遮蔽部，且该遮蔽蔀位于该排水槽孔的上方
4.根据权利要求2所述的快速排水槽清洗槽，其特征在于固定于该槽体中的该导流板的该长度等于该槽体的内部的長度
5.根据权利要求2所述的快速排水槽清洗槽，其特征在于该些调整元件为多个螺丝
6.根据权利要求1所述的快速排水槽清洗槽，其特征在於该导流板的材质为一种高硬度材料
7.根据权利要求1所述的快速排水槽清洗槽，其特征在于该导流板的材质为一种耐高温材料
8.根据权利偠求1所述的快速排水槽清洗槽，其特征在于该导流板的材质为一种耐酸碱材料
9.根据权利要求1所述的快速排水槽清洗槽，其特征在于该导鋶板的材质为一种抗静电材料
10.根据权利要求1所述的快速排水槽清洗槽，其特征在于该导流板的材质为聚醚醚酮
一种快速排水槽清洗槽，至少包含槽体与一个导流板其中，此槽体的底部至少包括一个排水槽孔且导流板固定在排水槽孔上方的槽体内。此导流板可用以将槽体内的流场从大喷流转变成小喷流而消除晶圆粘贴效应。
许国堂, 潘逸平, 杨仁渊, 张日宝, 俞台勇 申请人:台湾积体电路制造股份有限公司
